欢迎访问《空军工程大学学报》官方网站!

咨询热线:029-84786242 RSS EMAIL-ALERT
脉冲激光沉积(PLD)技术及其应用研究
DOI:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

TN249

基金项目:

国家自然科学基金资助项目(50331040,60171043);陕西省自然科学基金资助项目(2001C21);西北工业大学博士论文创新基金资助项目(200242)


Review of Pulsed Laser Deposition Technology
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    综述了脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的原理、特点,着重分析了脉冲激光沉积技术的研究现状和在功能薄膜制备中的应用前景。大量研究表明,脉冲激光沉积技术是目前最好的制备薄膜方法之一。

    Abstract:

    In this paper, the principle and the characteristics of pulsed laser deposition (PLD) technology is briefly introduced, the current research status of PLD and future application trend in the functional film are discussed in detail. The researches show that PLD is a new promising technique for growing thin films.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

高国棉,陈长乐,王永仓,陈钊,李谭.脉冲激光沉积(PLD)技术及其应用研究[J].空军工程大学学报,2005,(3):77-81

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期: 2015-11-24
  • 出版日期: